Lumaku pikeun bahan bakar Passat sensor tekanan rail umum 06E906051K

1. Métode pikeun ngabentuk sensor tekanan, ngawengku:

Nyadiakeun substrat semikonduktor, dimana lapisan diéléktrik interlayer kahiji, lapisan diéléktrik interlayer kahiji jeung lapisan diéléktrik interlayer kadua kabentuk dina substrat semikonduktor.

A plat éléktroda handap dina lapisan diéléktrik interlayer kahiji, hiji éléktroda silih munggaran ayana dina lapisan sarua salaku plat éléktroda handap sarta dipisahkeun.

Nyambungkeun lapisan;

Ngabentuk lapisan kurban luhureun piring polar handap;

Ngabentuk pelat éléktroda luhur dina lapisan diéléktrik interlayer kahiji, lapisan interkonéksi kahiji jeung lapisan kurban;

Sanggeus ngabentuk lapisan kurban jeung saméméh ngabentuk piring luhur, dina lapisan interkonéksi kahiji

Ngabentuk alur sambungan, sarta ngeusian alur sambungan kalawan plat luhur pikeun listrik nyambungkeun jeung lapisan interconnection munggaran; Atawa,

Saatos ngabentuk pelat éléktroda luhur, alur nyambungkeun kabentuk dina pelat éléktroda luhur jeung lapisan interkonéksi kahiji, nu

Ngabentuk lapisan conductive nyambungkeun pelat éléktroda luhur jeung lapisan interconnection munggaran dina alur sambungan;

Saatos listrik nyambungkeun pelat luhur jeung lapisan interconnection munggaran, nyoplokkeun lapisan kurban pikeun ngabentuk rongga.

2. Metodeu pikeun ngabentuk sensor tekanan nurutkeun ngaku 1, wherein dina lapisan kahiji

Métode pikeun ngabentuk lapisan kurban dina lapisan diéléktrik interlayer ngandung léngkah-léngkah ieu:

Depositing lapisan bahan kurban dina lapisan diéléktrik interlayer munggaran;

Pola lapisan bahan kurban pikeun ngabentuk lapisan kurban.

3. Metodeu pikeun ngabentuk sensor tekanan nurutkeun klaim 2, wherein photolithography jeung ukiran dipaké.

Lapisan bahan kurban dipolakeun ku prosés etsa.

4. Metodeu pikeun ngabentuk sensor tekanan nurutkeun ngaku 3, wherein lapisan kurban

Bahanna nyaéta karbon amorf atanapi germanium.

5. Metodeu pikeun ngabentuk sensor tekanan nurutkeun ngaku 4, wherein lapisan kurban

Bahanna nyaéta karbon amorf;

Gas etching dipaké dina prosés etching lapisan bahan kurban ngawengku O2, CO, N2 jeung Ar;

Parameter dina prosés etching lapisan bahan kurban nyaéta: rentang aliran O2 nyaeta 18 SCCM ~ 22 SCCM, sarta laju aliran CO nyaéta 10%.

Laju aliran antara 90 SCCM nepi ka 110 SCCM, laju aliran N2 dibasajankeun 90 SCCM nepi ka 110 SCCM, sarta laju aliran Ar.

rentang nyaeta 90 SCCM ~ 110 SCCM, rentang tekanan 90 mtor ~ 110 mtor, sarta kakuatan bias nyaeta

540w ~ 660w.